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復(fù)合式鹽霧試驗(yàn)箱中六大影響鹽霧試驗(yàn)結(jié)果因素

更新時(shí)間:2015-06-23      點(diǎn)擊次數(shù):1900
  復(fù)合式鹽霧試驗(yàn)箱是采用鹽霧腐蝕的方式來(lái)檢測(cè)被測(cè)樣品的分別耐腐蝕的可靠性,鹽霧是指大氣中由含鹽微小液滴所構(gòu)成的彌散系統(tǒng),是人工環(huán)境三防系列中的一種,很多企業(yè)產(chǎn)品需模擬海洋周邊氣候?qū)Ξa(chǎn)品造成的破壞性,所以鹽霧試驗(yàn)箱應(yīng)運(yùn)而行。
  
  有些客戶(hù)反應(yīng)復(fù)合式鹽霧試驗(yàn)箱的測(cè)試結(jié)果不準(zhǔn)確,但是又不知道是什么原因?小編特地列出六大影響鹽霧試驗(yàn)結(jié)果的主要因素。包括:試驗(yàn)溫濕度、鹽溶液的濃度、樣品放置角度、鹽溶液的pH值、鹽霧沉降量和噴霧方式等。
  
  一、試驗(yàn)溫濕度
  
  電工委員會(huì)IEC60355:1971標(biāo)準(zhǔn)指出:“溫度每升高10℃,腐蝕速度提高2~3倍,電解質(zhì)的導(dǎo)電率增加10~20%”,關(guān)于鹽霧試驗(yàn)對(duì)于腐蝕濕度的界面,通常認(rèn)為是70%,如果試驗(yàn)中,相對(duì)濕度高于70%,鹽將潮解而形成導(dǎo)電性能良好的電解液,而反之,當(dāng)相對(duì)濕度低于70%,腐蝕速度相應(yīng)降低,這是因?yàn)樵囼?yàn)環(huán)境中的濕度增加會(huì)解析出結(jié)晶鹽顆粒。
  
  二、鹽溶液的濃度
  
  不同的試驗(yàn)材料和不同材料的不同覆蓋層,需要的鹽溶液濃度是不一樣的,以鋼、鎳、黃銅為例,這種材料的金屬腐蝕速度,當(dāng)鹽溶液濃度在5%以下時(shí)腐蝕速度會(huì)隨著濃度增加而增加;當(dāng)鹽溶液濃度在5%以上時(shí)腐蝕速度會(huì)隨著濃度增加而降低,出現(xiàn)這種情況的原因主要是與鹽溶液里的氧含量有關(guān),而鹽溶液里的氧含量則與鹽的濃度有關(guān),當(dāng)氧在低濃度范圍的鹽溶液里,氧的含量會(huì)隨著鹽濃度的增加而增加,但是,如果把鹽溶液的濃度增加到5%時(shí),溶液里的氧含量則會(huì)相對(duì)飽和,這時(shí)如何持續(xù)提高鹽溶液的濃度,里面氧的含量則相應(yīng)下降。氧含量下降,氧的去極化能力也下降即腐蝕作用減弱。但對(duì)于鋅、鎘、銅等金屬,腐蝕速度卻始終隨著鹽溶液濃度的增加而增加。
  
  三、樣品放置角度
  
  鹽霧試驗(yàn)中的鹽霧沉降方向是接近垂直的,所以如果想讓試驗(yàn)件的表面接觸到更多的鹽霧,需要考慮樣品放置的位置和角度,如果試驗(yàn)件是平板狀的物體,想zui大面積地接觸鹽霧,得出的試驗(yàn)結(jié)果,GB/T2423.17-93標(biāo)準(zhǔn)有這方面的規(guī)定和建議:試驗(yàn)件的受試面與垂直方向放置,這個(gè)角度zui為準(zhǔn)確。
  
  四、PH值
  
  由于因?yàn)?strong>復(fù)合式鹽霧試驗(yàn)箱中環(huán)境中,有很多因素的影響,試驗(yàn)中鹽溶液的pH值會(huì)發(fā)生改變,因?yàn)檫@樣,所以不管是國(guó)內(nèi)還是國(guó)外的鹽霧試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)中,都有對(duì)于鹽溶液的PH值范圍的規(guī)定,并指出,穩(wěn)定的PH值,對(duì)于提高鹽霧試驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確有著很大的重要性。
  
  五、鹽霧沉降量
  
  在自然環(huán)境中,有90%以上的鹽霧顆粒直徑在1微米單位以下,想讓鹽霧接觸的面積更大,就要讓鹽霧顆粒盡量地更小,只有鹽霧顆粒直徑越小,金屬被吸附的氧量越多,造成對(duì)于試驗(yàn)件的腐蝕也就越強(qiáng)。有這方面的研究機(jī)構(gòu)做過(guò)這方面的試驗(yàn),得出的結(jié)果是直徑1微米的鹽霧顆粒表面所吸附的氧量與顆粒內(nèi)部溶解的氧量是相對(duì)平衡的。
  
  六、噴霧方式
  
  不同的噴霧方法具有不一樣的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn),像氣壓噴射法和噴塔法這兩種噴霧方法,優(yōu)點(diǎn)就是因?yàn)楦鼈鹘y(tǒng),所以掌握的公司就多,容易實(shí)施,而缺點(diǎn)就是鹽霧沉降量均勻性較差,鹽霧顆粒直徑較大。
  
  復(fù)合式鹽霧試驗(yàn)箱使用時(shí)的環(huán)境要求
  
  1、設(shè)備周邊必須有600mm以上的空間;
  
  2、設(shè)備無(wú)陽(yáng)光直射或其他熱源直接輻射;
  
  3、設(shè)備周?chē)臏囟纫3衷?5℃~30℃;
  
  4、設(shè)備周?chē)鸁o(wú)高濃度粉塵及腐蝕性物質(zhì);
  
  5、設(shè)備周?chē)鸁o(wú)強(qiáng)烈氣流,當(dāng)周?chē)諝庑鑿?qiáng)制流動(dòng)時(shí),氣流不應(yīng)直接吹到箱體上;
  
  6、設(shè)備使用電源電壓的波動(dòng)≤±10%。

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